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【I854623】三維結構室溫氣體感測器 THREE-DIMENSIONAL STRUCTURED ROOM TEMPERATURE GAS SENSOR

書目
公告號 I854623
公告日 2024/09/01
公報卷期 51-25
證書號 I854623
申請號 112116297 E
申請日 2023/05/02
公報IPC G01N 27/12(2006.01)
當前IPC G01N 27/12(2006.01)
申請人 國立高雄科技大學 高雄市三民區建工路415號 (中華民國);
NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY NO.415, JIANGONG RD., SANMIN DIST., KAOHSIUNG CITY (TW)
當前專利權人 國立高雄科技大學; NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
發明人 薛丁仁 (中華民國); HSUEH, TING JEN (TW);
葉祐名 (中華民國); YEH, YU MING (TW);
王品翔 (中華民國); WANG, PIN HSIANG (TW);
林依庭 (中華民國); LIN, YI TING (TW)
代理人 陳豐裕
當前代理人 陳豐裕
審查委員 林永昌
摘要 本發明係有關於一種三維結構室溫氣體感測器,其主要係令基座貫穿形成有數貫孔,於基座表面及各貫孔內緣設置有絕緣層,且於絕緣層外端面設置有感測層,再於對應基座上、下端面皆設有電極層,令電極層與感測層相接觸連接;藉此,令其在使用上係為針對於室溫環境下,無需另行加熱,使得不僅能大幅度的降低消耗功率更能夠節省能源,且若能與智慧型手機做結合的話,依照目前全球手機用戶來計算,這將大大減少能耗,並若是在醫材使用上,無須加熱的感測器也相對較具有安全性,而在其整體施行使用上更增實用功效特性者。

參考文獻
引用專利 CN106198631A E; CN110892497A ETW201809654ATW202016535ATW202136768A; US2015/0263647A1 E

專利範圍   原始格式 
專利範圍 1.一種三維結構室溫氣體感測器,其主要係包括有基座、絕緣層、感測層及電極層;其中: 該基座貫穿形成有數貫孔,於該基座表面及各該貫孔內緣設置有該絕緣層,且於該絕緣層外端面設置有該感測層,再於對應該基座上、下端面皆設有該電極層,令該電極層與該感測層相接觸連接。

2.如請求項1所述三維結構室溫氣體感測器,其中,該基座為矽[Si]材質。

3.如請求項1所述三維結構室溫氣體感測器,其中,該基座係為設置光阻劑[photoresist]或鋁[Al]金屬所形成的阻隔層,經由曝光顯影及蝕刻作業,而在該基座貫穿形成有各該貫孔。

4.如請求項3所述三維結構室溫氣體感測器,其中,該蝕刻作業係為濕式蝕刻、乾式蝕刻任一種。

5.如請求項1所述三維結構室溫氣體感測器,其中,該絕緣層為氧化矽[SiO 2]、氧化鋁[Al 2O 3]、氮化鋁[AlN]、氮化矽[SiN x]任一種或複數種所堆疊組成。

6.如請求項1所述三維結構室溫氣體感測器,其中,該感測層係為金屬氧化物半導體。

7.如請求項1或6所述三維結構室溫氣體感測器,其中,該感測層係為氧化鋅[ZnO]、二氧化錫[SnO 2]、氧化銅[CuO]、三氧化二鐵[Fe 2O 3]、三氧化鎢[WO 3]、二氧化鈦[TiO 2]、氧化鎵[Ga 2O 3]、氧化銦[In 2O 3]任一種。

8.如請求項1所述三維結構室溫氣體感測器,其中,該絕緣層與該感測層係為利用蒸鍍沉積、濺鍍沉積、原子層沈積[Atomic Layer Deposition,ALD]、化學氣相沉積[Chemical Vapor Deposition,CVD]、電漿輔助化學氣相沉積[Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD]、電化學沉積、金屬熱氧化任一種技術予以成形。

9.如請求項1所述三維結構室溫氣體感測器,其中,該電極層係為金屬材質。

10.如請求項1或9所述三維結構室溫氣體感測器,其中,該電極層係為鈦[Ti]、金[Au]、鉻[Cr]、銅[Cu]、錫[Sn]、鉑[Pt]、鋁[Al]任一種或複數種所堆疊組成。
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