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【I852739】放電加工機台 ELECTRICAL DISCHARGE MACHINING MACHINE

書目
公告號 I852739
公告日 2024/08/11
公報卷期 51-23
證書號 I852739
申請號 112131563 E
申請日 2023/08/22
公報IPC B23H 1/08(2006.01); B23H 1/00(2006.01)
當前IPC B23H 1/08(2006.01); B23H 1/00(2006.01)
申請人 國立高雄科技大學 高雄市三民區建工路415號 (中華民國);
NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY NO.415 CHIEN-KUNG ROAD, SANMING DISTRICT, KAOHSIUNG 80778, TAIWAN, R.O.C (TW)
當前專利權人 國立高雄科技大學; NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
發明人 許文政 (中華民國); HSUE, WEN-JENG (TW);
林宗叡 (中華民國); LIN, TSUNG-JUI (TW)
代理人 彭志弘
當前代理人 彭志弘
審查委員 李蕢至
摘要 一種放電加工機台,所提供的放電加工機台係可提供電介質霧滴與負壓吸力,以藉由負壓吸力帶動電介質霧滴流到加工刀具與工件之間,使加工刀具可透過電介質霧滴對工件進行近乾式的放電加工。另外,所述放電加工機台還可藉由負壓吸力帶動加工屑渣經由加工刀具離開工件,進而提高加工屑渣的排渣效率,以避免加工屑渣堆積在工件而形成不穩定放電進而提高放電加工效率,並使得工件的加工部位的粗糙度、形貌與尺寸精度符合預期,甚至還可延緩放電加工刀具端部鈍化消耗的時間。

參考文獻
引用專利 CN106112150A ETW201141639ATW201531359ATW494035B; US4735678A E

專利範圍   原始格式 
專利範圍 1.一種放電加工機台,該放電加工機台係可搭配一電介質液體,以對一工件進行放電加工,該放電加工機台係包括:一加工腔體,該加工腔體係為該工件提供一加工電介質環境,且該加工腔體係具有一腔體刀具通道;一霧化裝置,該霧化裝置係接受該電介質液體,而可將該電介質液體霧化而產生一電介質霧滴,且該霧化裝置係連通該加工腔體,而可為該加工電介質環境提供該電介質霧滴;一加工刀具,該加工刀具係具有一刀具本體、一刀具加工結構與一刀具內流道,該刀具加工結構係設置於該刀具本體的外部,該刀具內流道係設置於該刀具本體的內部並貫穿該刀具本體;一加工主軸,該加工主軸係用於裝設該加工刀具,使該加工刀具經由該腔體刀具通道進入該加工腔體,該加工主軸還可移動該加工刀具,使該加工刀具於該加工腔體中靠近該工件,而於該刀具加工結構與該工件之間形成一放電通道;以及一負壓提供模組,該負壓提供模組係連通該刀具內流道,使該負壓提供模組可經由該刀具內流道對該放電通道提供負壓吸力,以在該放電通道中形成一負壓流場,而藉由該負壓流場形成驅動該電介質霧滴的流體,進而帶動在該加工電介質環境中的該電介質霧滴流入該放電通道,讓該刀具加工結構可在該放電通道對該工件進行放電加工,而後,該負壓流場可帶動該電介質霧滴經由該刀具內流道離開該放電通道。

2.如請求項1所述之放電加工機台,其中,該刀具加工結構對該工件進行放電加工會在該放電通道產生一加工屑渣,該負壓流場還可形成驅動該加工屑渣,進而帶動該加工屑渣經由該刀具內流道離開該放電通道。

3.如請求項1所述之放電加工機台,其中,還包括一正壓提供模組,該正壓提供模組係連通該加工腔體,使該正壓提供模組可為該加工電介質環境提供一正壓氣體,以在該加工電介質環境中形成一正壓流場,以藉由該正壓流場形成驅動該電介質霧滴的流體,進而帶動該電介質霧滴在該加工電介質環境中流動。

4.如請求項3所述之放電加工機台,其中,該加工腔體還具有一腔體內流道,該正壓提供模組係連通該腔體內流道,使該正壓提供模組可為該腔體內流道提供該正壓氣體,該腔體內流道係朝向該放電通道延伸,使該正壓氣體可經由該腔體內流道流向該放電通道。

5.如請求項4所述之放電加工機台,其中,該腔體內流道係在該刀具本體的周圍,使該正壓氣體可沿著該刀具本體的周圍流動。

6.如請求項1所述之放電加工機台,其中,該加工腔體係具有至少一腔體牆壁,該腔體牆壁係在該加工電介質環境的周圍,而該霧化裝置係設置於該腔體牆壁。

7.如請求項6所述之放電加工機台,其中,該加工腔體係具有一腔體霧滴引導結構,該腔體霧滴引導結構係連通該霧化裝置以接收該電介質霧滴,且該腔體霧滴引導結構係穿過該腔體牆壁並朝向該放電通道,以引導該電介質霧滴朝向該放電通道流動。

8.如請求項7所述之放電加工機台,其中,該腔體牆壁係傾斜,使該腔體霧滴引導結構朝向該放電通道。

9.如請求項7所述之放電加工機台,其中,該腔體牆壁係具有複數個,該些腔體牆壁的相鄰兩者係連接,使該加工腔體的形體為一錐狀形體,該腔體霧滴引導結構係佈設於該些腔體牆壁,使該腔體霧滴引導結構朝向該放電通道。

10.如請求項6所述之放電加工機台,其中,還包括一容液槽,該容液槽係提供容納該電介質液體,且該容液槽係鄰近該加工腔體,而可為該霧化裝置提供該電介質液體,該腔體牆壁係隔開該容液槽與該加工電介質環境。
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