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【專利讓售】具高滲透通量之含二氧化矽奈米顆粒之正滲透薄膜及其製備方法
【專利讓售】 (公告日期：2023/10/26)
本校擬將所擁有之優質專利，以有價讓售之方式提供國內外廠商、自然人，促進整體產業發展及提升研發成果運用效益。
有意詳談者請來信
fcoffice01@nkust.edu.tw、07-6011000#31422
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專利名稱 |
具高滲透通量之含二氧化矽奈米顆粒之正滲透薄膜及其製備方法 | ||
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申請號 |
110119702 |
申請日 |
2021/5/31 |
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專利證號 |
I755332 |
專利權人 |
國立高雄科技大學 |
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發明人 |
林怡利、阮竹瓊、童國倫、董正釱、陳秋妏、吳忠信 | ||
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主IPC分類碼 |
B32B 27/20(2006.01); B01D 61/00(2006.01); B01D 67/00(2006.01); B01D 69/06(2006.01); B01D 69/10(2006.01); B01D 69/12(2006.01); B01D 71/02(2006.01); B01D 71/56(2006.01); B01D 71/68(2006.01); B32B 27/28(2006.01); B32B 27/34(2006.01); B82Y 30/00(2011.01); B82Y 40/00(2011.01); C02F 1/44(2006.01) | ||
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專利摘要 |
本發明關於一種具高滲透通量之含二氧化矽奈米顆粒之正滲透薄膜及其製備方法，含二氧化矽奈米顆粒之正滲透薄膜包含一聚碸基材層與一聚醯胺表面層，在以界面聚合法製備聚醯胺層於聚碸基材層的過程中，添加不同性質的二氧化矽奈米顆粒，以製備出具有優秀的水滲透通量與溶質選擇性的正滲透薄膜，且本發明之含二氧化矽奈米顆粒之正滲透薄膜，能有效應用於廢水處理。 | ||
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