跳到主要內容區
回首頁   |    高科大    |   網站管理
 

【I810481】檢測環境中塑膠微粒方法及其系統

書目
公告號 I810481 公開202210810
公告日 2023/08/01
公報卷期 50-22
證書號 I810481
申請號 109130822 E
申請日 2020/09/08
公報IPC G01N 21/33(2006.01)
當前IPC G01N 21/33(2006.01)
申請人 國立高雄科技大學 高雄市三民區建工路415號 (中華民國);
NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 415 CHIEN-KUNG RD., KAOHSIUNG, TAIWAN (TW)
當前專利權人 國立高雄科技大學; NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
發明人 李孟珊 (中華民國); LEE, MENG SHAN (TW);
許祐甄 (中華民國); HSU, YU JHEN (TW);
蔡文沛 (中華民國); TSAI, WEN PEI (TW)
代理人 顏豪呈; 王志中
審查委員 謝育桓
摘要 一種檢測環境中塑膠微粒方法:提供至少一待檢測樣本;將該待檢測樣本進行前過濾處理,以獲得一過濾取得塑膠微粒樣本;利用一廣域波長光源照射該過濾取得塑膠微粒樣本,並利用一高光譜儀裝置接收一塑膠微粒樣本反射光,以獲得一塑膠微粒光譜資料;將該塑膠微粒光譜資料以一反射率模型計算至少一塑膠微粒反射率特徵;及利用該反射率模型進行計算該塑膠微粒反射率特徵而產生一塑膠微粒特徵資料。

參考文獻
引用專利 CN107454936A E; US2001/0045518A1 E

專利範圍   原始格式 
專利範圍 1.一種檢測環境中塑膠微粒系統,其包含:一待檢測樣本單元,其容置一待檢測樣本;一過濾單元,其將該待檢測樣本進行前過濾處理,以便於該過濾單元上獲得一過濾取得塑膠微粒樣本;一廣域波長光源,其用以照射於該過濾單元上之該過濾取得塑膠微粒樣本;一高光譜儀裝置,其用以於該過濾單元上接收一塑膠微粒樣本反射光,以獲得一塑膠微粒光譜資料;及一特徵計算模型,其利用該塑膠微粒光譜資料以一反射率模型計算至少一塑膠微粒反射率特徵,且該塑膠微粒反射率特徵包含至少一反射率特徵波峰;其中利用該反射率模型進行計算該塑膠微粒反射率特徵而產生一塑膠微粒特徵資料。

2.依申請專利範圍第1項所述之檢測環境中塑膠微粒系統,其另包含一檢測箱體,並利用該檢測箱體容置該廣域波長光源及高光譜儀裝置,以便進行一檢測塑膠微粒作業。

3.依申請專利範圍第1項所述之檢測環境中塑膠微粒系統,其中該待檢測樣本包含一淡水體樣本、一海水體樣本、一土壤樣本、一淨水廠處理底泥樣本、一水庫底泥樣本或一生物體樣本。

4.依申請專利範圍第3項所述之檢測環境中塑膠微粒系統,其中該生物體樣本包含一海洋生物體樣本、一潮間帶生物體樣本、一水庫生物體樣本、一兩棲類生物體樣本或一微生物體樣本。

5.依申請專利範圍第1項所述之檢測環境中塑膠微粒系統,其中該高光譜儀裝置選自一紅外光高光譜儀裝置、一近紅外光高光譜儀裝置或一短波近紅外光高光譜儀裝置。

6.一種檢測環境中塑膠微粒方法,其包含:提供至少一待檢測樣本;將該待檢測樣本進行前過濾處理,以便於該過濾單元上獲得一過濾取得塑膠微粒樣本;利用一廣域波長光源照射於該過濾單元上之該過濾取得塑膠微粒樣本,並利用一高光譜儀裝置於該過濾單元上接收一塑膠微粒樣本反射光,以獲得一塑膠微粒光譜資料;將該塑膠微粒光譜資料以一反射率模型計算至少一塑膠微粒反射率特徵,且該塑膠微粒反射率特徵包含至少一反射率特徵波峰;及利用該反射率模型進行計算該塑膠微粒反射率特徵而產生一塑膠微粒特徵資料。

7.依申請專利範圍第6項所述之檢測環境中塑膠微粒方法,其中該廣域波長光源之一預定波長光由一鹵素光源或一氘光光源產生。

8.依申請專利範圍第6項所述之檢測環境中塑膠微粒方法,其中該反射率模型包含一數學式一階導數及一數學式二階導數。

9.依申請專利範圍第6項所述之檢測環境中塑膠微粒方法,其中自一光譜獲得一塑膠微粒材質資料。

10.依申請專利範圍第6項所述之檢測環境中塑膠微粒方法,其中該塑膠微粒特徵資料用以比對於一塑膠微粒材質資料,以便比對預測一塑膠微粒材質種類。
瀏覽數:
登入成功