【I783486】無戴奧辛危害之飛灰再生粒料製程
| 公告號 | I783486 公開202245927 |
| 公告日 | 2022/11/11 |
| 公報卷期 | 49-32 |
| 證書號 | I783486 |
| 申請號 | 110117930 E |
| 申請日 | 2021/05/18 |
| 公報IPC | B09B 3/00(2006.01) |
| 當前IPC | B09B 3/00(2006.01) |
| 申請人 | 國立高雄科技大學 高雄市燕巢區大學路1號 (中華民國); NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY NO. 1, UNIVERSITY RD., YANCHAO DIST., KAOHSIUNG CITY 824, TAIWAN, R. O. C. (TW) |
| 當前專利權人 | 國立高雄科技大學; NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY |
| 發明人 | 張健桂 (中華民國); CHANG, CHIEN KUEI (TW); 李祈煌 (中華民國); LEE, CHI HUANG (TW) |
| 代理人 | 陳瑞田; 金玉書 |
| 審查委員 | 賴耿賢 |
| 摘要 | 一種無戴奧辛危害之飛灰再生粒料製程,其步驟包含:一設定步驟,根據一重金屬溶出試驗曲線圖中初始反應時間的酸鹼值,得出對應的一液固比值及初始黏度值;一酸洗作業步驟,將初始物料、水、酸液及氧化劑加入酸洗槽並調節酸鹼值比例與反應時間的對應關係;一定量輸出步驟,將酸洗作業後漿液輸入至緩衝槽內定量輸出;一過濾步驟,過濾分離出緩衝槽輸出漿液的固體部分;一乾燥步驟,去除固體部分之水份形成乾燥固體物;一混碎步驟,用以粉碎乾燥固體物以形成粉體,即為無戴奧辛危害之飛灰再生粒料。 |
| 專利範圍 | 1.一種無戴奧辛危害之飛灰再生粒料製程,其步驟包含:一設定步驟,係根據一初始物料的酸鹼值比對一重金屬溶出試驗曲線圖中初始反應時間的酸鹼值,得出最接近該酸鹼值之曲線所對應的一液固比值,再依據該液固比值經由一不同液固比黏度變化曲線圖,查出與該液固比值對應的一黏度值,以作為該初始物料的初始黏度值;一酸洗作業步驟,係將符合一初始比例之該初始物料、一水、一酸液加入一具有一酸鹼值量測計的酸洗槽,再攪拌至均勻,使該初始物料內的重金屬與該水與該酸液反應而洗提重金屬,該初始物料與水的比例調配符合該初始黏度值,該酸洗作業步驟並檢測該初始物料加到該酸洗槽前的酸鹼值與該酸洗槽內漿液的酸鹼值,以調節該酸洗槽內漿液的酸鹼值比例,使該漿液的酸鹼值與反應時間的對應關係符合該重金屬溶出試驗曲線圖之選定的曲線變化,並在該初始物料與該水、該酸液反應時再加入一氧化劑參與反應一段時間,該初始比例之初始物料.水與酸液的重量比例依序為1:4~7:1~4,其中該酸洗作業步驟中,該酸洗槽內漿液的酸鹼值為pH1~5,該氧化劑為臭氧且其反應0.5~4小時;一定量輸出步驟,係將該酸洗作業後之該酸洗槽內的漿液輸入至一緩衝槽內,並對該緩衝槽進行一可控制輸出量大小的漿液輸出;一過濾步驟,以一過濾器過濾分離出該緩衝槽輸出之該漿液的固體部分;一乾燥步驟,用以去除該固體部分之水份,進而形成乾燥固體物;一混碎步驟,用以粉碎該乾燥固體物以形成一小粒徑的粉體之該無戴奧辛危害之飛灰再生粒料。 2.如請求項1所述無戴奧辛危害之飛灰再生粒料製程,其中該酸洗作業步驟中,該氧化劑為一臭氧及一過氧化氫,該臭氧和該過氧化氫於反應0.2~4小時後停止供應。 3.如請求項1所述無戴奧辛危害之飛灰再生粒料製程,其中該酸洗作業步驟更包含:一流量控制單元,用以分別控制該初始物料、該水、該酸液進入該酸洗槽的比例;一轉速控制單元,用以控制該酸洗槽內混合物的攪動速度;一黏度控制單元,用以將該初始物料與水攪拌至均勻;以及一酸鹼值控制單元,用以控制並調節該酸洗槽內漿液的酸鹼值比例。 4.如請求項3所述無戴奧辛危害之飛灰再生粒料製程,其中於該酸洗作業步驟中,加入該酸洗槽的酸液為廢酸,且於該酸鹼值控制單元中,用以控制該水與該酸液的酸鹼比例的方式係利用加入一可控制加入量大小的水或純酸至該酸洗槽,以調整該酸洗槽的酸液值,並透過即時檢測該酸洗槽內漿液的酸鹼值,即時對應加入該純酸以調整酸度或加入該水以調整鹼度。 5.如請求項3所述無戴奧辛危害之飛灰再生粒料製程,其中調整該酸洗槽的酸液值方式係在該酸洗槽中加入酸或鹼。 6.如請求項1所述無戴奧辛危害之飛灰再生粒料製程,其中於該酸洗作業步驟中,該酸洗槽的均勻攪拌係採用一可反饋轉動阻力值的電動攪拌器,自動估算該初始物料與水的比例調配是否符合該初始黏度值,並據而即時調整該初始物料與水的加入比例。 7.如請求項1所述無戴奧辛危害之飛灰再生粒料製程,其中該氧化劑係選自臭氧、過氧化氫及二氧化氯所組成之群組。 |
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