【M622907】虛擬同軸系統
| 公告號 | M622907 |
| 公告日 | 2022/02/01 |
| 公報卷期 | 49-04 |
| 證書號 | M622907 |
| 申請號 | 110210846 E |
| 申請日 | 2021/09/13 |
| 公報IPC | H01L 21/66(2006.01); B23K 26/36(2014.01); G06K 9/62(2006.01); G06T 7/00(2017.01) |
| 當前IPC | H01L 21/66(2006.01); B23K 26/36(2014.01); G06K 9/62(2006.01); G06T 7/00(2017.01) |
| 申請人 | 蔡宜興 高雄市苓雅區建民路140號6樓之3 (中華民國) (TW); 李財福 高雄市三民區建工路415號 (中華民國) (TW); 國立高雄科技大學 高雄市三民區建工路415號 (中華民國) (TW) |
| 當前專利權人 | 蔡宜興; 李財福; 國立高雄科技大學 |
| 發明人 | 蔡宜興 (中華民國) (TW); 李財福 (中華民國) (TW) |
| 代理人 | 劉哲郎 |
| 摘要 | 一種虛擬同軸系統,包括一主控制單元、一定位平台、一承載平台、一影像辨識單元及一雷射除膠單元,其中該定位平台電性連接該主控制單元,該承載平台設置在該定位平台上且配置用以承載待除膠的至少一料片,該影像辨識單元設置在該承載平台上方且電性連接該主控制單元,其中該影像辨識單元配置用以擷取該料片的影像並進行辨識,該雷射除膠單元設置在該影像辨識單元的一側且位於該承載平台上方並電性連接該主控制單元,其中該雷射除膠單元配置用以對該料片進行除膠。 |
| 專利範圍 | 1.一種虛擬同軸系統,包括: 一主控制單元; 一定位平台,電性連接該主控制單元; 一承載平台,設置在該定位平台上且配置用以承載待除膠的至少一料片; 一影像辨識單元,設置在該承載平台上方且電性連接該主控制單元,其中該影像辨識單元配置用以擷取該料片的影像並進行辨識;及 一雷射除膠單元,設置在該影像辨識單元的一側且位於該承載平台上方並電性連接該主控制單元,其中該雷射除膠單元配置用以對該料片進行除膠; 其中該主控制單元對該定位平台、該影像辨識單元及該雷射除膠單元進行位置校正,再將該影像辨識單元對該料片獲得的座標資訊提供給該雷射除膠單元,並透過該定位平台將一特定位置再現,使得該影像辨識單元以及該雷射除膠單元能夠校正為虛擬同軸。 2.如請求項1所述之虛擬同軸系統,其中該定位平台具有一縱向軌道及一橫向軌道,該橫向軌道設置在該縱向軌道上,該承載平台設置在該橫向軌道上。 3.如請求項2所述之虛擬同軸系統,其中該橫向軌道採用內建光學尺的X軸線性馬達來驅動位移,該縱向軌道採用內建光學尺的Y軸線性馬達來驅動位移。 4.如請求項1所述之虛擬同軸系統,其中該承載平台具有一承載座及一真空吸盤,該真空吸盤形成在該承載座表面,該真空吸盤配置用以真空吸引該料片。 5.如請求項1所述之虛擬同軸系統,其中該影像辨識單元包含一感光元件及一發光元件,該發光元件設置在該定位平台上方,該感光元件設置在該發光元件上方。 6.如請求項5所述之虛擬同軸系統,其中該影像辨識單元包含另包含一影像遠心鏡頭,該影像遠心鏡頭設置在該發光元件上方,該感光元件設置在該影像遠心鏡頭的一端。 7.如請求項5所述之虛擬同軸系統,其中該發光元件為外同軸光源。 8.如請求項1所述之虛擬同軸系統,其中該雷射除膠單元包含一雷射振鏡模組,該雷射振鏡模組設置在該定位平台上方。 9.如請求項8所述之虛擬同軸系統,其中該雷射除膠單元另包含一雷射遠心鏡頭,該雷射遠心鏡頭與該定位平台相間隔,該雷射振鏡模組設置在該雷射遠心鏡頭的一端。 10.如請求項1所述之虛擬同軸系統,其中該主控制單元具有一處理器及一記憶模組,該處理器電性連接該定位平台、該影像辨識單元、該雷射除膠單元及該記憶模組,該記憶模組配置用以儲存該料片的影像定位資料、腳位影像定位資料以及溢膠判定資料。 |
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