【專利讓售】磁控濺鍍設備

【專利讓售】磁控濺鍍設備 (公告日期：2021/10/28)

本校擬將所擁有之優質專利，以有價讓售之方式提供國內外廠商、自然人，促進整體產業發展及提升研發成果運用效益。

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fcoffice01@nkust.edu.tw、07-6011000#31424

專利名稱	磁控濺鍍設備
申請號	098116586	申請日	2009/05/19
專利證號	I386507	專利權人	國立高雄科技大學
發明人	楊玉森
主IPC分類碼	C23C-014/35(2006.01)
專利摘要	本發明提出一種磁控濺鍍設備，包括一腔體、多個靶源、一置放座、多個第一磁鐵環與至少一第二磁鐵環。腔體具有一反應室與一圍繞反應室的壁體。靶源彼此相對地配置於反應室內。置放座配置於反應室內，並位於靶源之間，而第一磁鐵環與第二磁鐵環配置於腔體。各個第一磁鐵環具有一配置於壁體的第一磁極，而第二磁鐵環具有一配置於壁體的第二磁極。第一磁極與第二磁極二者的形狀皆為環形，且二者的磁性相反。

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