【I719830】基站裝置

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【I719830】基站裝置

公告號

I719830

專利名稱

基站裝置
BASE STATION DEVICE

公告日

2021/02/21

公告及公開日

公告-2021/02/21

證書號

I719830

申請日

2020/02/11

申請號

109104277

國際分類號
/IPC

H01Q-001/24(2006.01);H04W-088/08(2009.01)

公報卷期

48-06

發明人

陸瑞漢 LU, JUI-HAN;
莊惟任 CHUANG, WEI-REN;
陳柏銘 CHEN, BO-MING

申請人

國立高雄科技大學 NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 高雄市三民區建工路415號 TW

代理人

李文賢

參考文獻

CN101515668A

CN109891775A

US2015/0244070A1

審查人員

謝裕民

摘要

一種基站裝置，包含：第一本體，包含有複數個基板，基板相互連接而形成有第一貫通口之第一容置空間；第一天線，分別設置於每一基板之第一面上而位於第一容置空間，用以收發第一頻段；第二天線，分別設置於每一基板之第一面上而位於第一容置空間，用以收發第二頻段；及第二本體，連接於第一本體而位於第一容置空間，其中第二本體包含有複數個背板，背板相互連接而形成有第二貫通口之第二容置空間，並且每一背板與一個基板相互對應設置。

專利範圍

1.一種基站裝置，包含：一第一本體，包含有複數個基板，該些基板相互連接而形成有一第一貫通口之一第一容置空間；一第一天線，分別設置於每一該基板之一第一面上而位於該第一容置空間，用以收發一第一頻段；一第二天線，分別設置於每一該基板之該第一面上而位於該第一容置空間，用以收發一第二頻段；及一第二本體，連接於該第一本體而位於該第一容置空間，其中該第二本體包含有金屬製成之複數個背板，該些背板相互連接而形成有一第二貫通口之一第二容置空間，並且每一該背板與一個該基板相互對應設置，用以提供散熱與隔絕系統雜訊。
2.如請求項1所述之基站裝置，其中每一該基板包含一第一角落與一第二角落，該第一天線設置於該第一角落，該第二天線設置於該第二角落。
3.如請求項1所述之基站裝置，更包含一連接件，用以連接該第一本體與該第二本體，使該第二本體位於該第一容置空間內，而與該第一本體形成一間距。
4.如請求項3所述之基站裝置，其中該間距大小係在5.5mm至7.5mm之範圍間。
5.如請求項1所述之基站裝置，其中該第一天線包含：一第一段，往一第二方向延伸至一第一轉點；一第二段，自該第一轉點往一第一方向延伸形成；及一第三段，自該第二段之間而往該第二方向延伸形成。
6.如請求項5所述之基站裝置，其中該第一段之長度係在0.2mm至1mm之範圍間，該第二段之長度係在7mm至9mm之範圍間，該第三段之長度係在15.3mm至17.3mm之範圍間。
7.如請求項1所述之基站裝置，其中該第二天線包含：一第四段，往一第二方向延伸至一第二轉點；一第五段，自該第二轉點而往該第一方向之反方向延伸形成；一第六段，自該第五段之間而往該第二方向延伸至一第三轉點；及一第七段，自該第三轉點而往該第一方向之反方向延伸形成。
8.如請求項7所述之基站裝置，其中該第四段之長度係在2.5mm至4.5mm之範圍間，該第五段之長度係在7.4mm至9.4mm之範圍間，該第六段之長度係在6mm至8mm之範圍間，該第七段之長度係4.8在mm至6.8mm之範圍間。
9.如請求項1所述之基站裝置，更包含一第一蝕刻區與一第二蝕刻區，該第一蝕刻區對應該第一天線而位於該基板之一第二面，該第二蝕刻區對應該第二天線而位於該基板之該第二面。
10.如請求項9所述之基站裝置，其中該第一蝕刻區包含：一第一蝕刻槽，自該基板之一邊緣延伸形成；及一第二蝕刻槽，鄰近於該第一蝕刻槽而與該邊緣形成一間距。
11.如請求項9所述之基站裝置，其中該第二蝕刻區包含：一第三蝕刻槽，包含：一第一蝕刻段，自該基板之一邊緣延伸至一轉折點；及一第二蝕刻段，自該轉折點延伸形成，而與該第一蝕刻段呈一垂直；一第四蝕刻槽，自該基板之該邊緣延伸形成而位於該邊緣與該第二蝕刻段之間；及一第五蝕刻槽，自該基板之該邊緣延伸形成而位於該邊緣與該第二蝕刻段之間。

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