【I706577】長週期光纖光柵的製造方法
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| 專利名稱 | 長週期光纖光柵的製造方法 | ||
| 公告日 | 2020/10/01 | ||
| 證書號 | I706577 | ||
| 申請日 | 2019/09/20 | ||
| 申請號 | 108133946 ![]() |
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| 國際分類號 /IPC |
H01L-031/18(2006.01);G02B-006/08(2006.01) | ||
| 公報卷期 | 47-28 | ||
| 發明人 | 江家慶 ; 溫新宜 ; 陳景綸 ; 翁健傑 |
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| 申請人 | 國立高雄科技大學 高雄市三民區建工路415號 TW | ||
| 代理人 | 顏婌烊 | ||
| 參考文獻 | TW419607 TWI484232B CN106707406A ![]() US6201911B1 ![]() |
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| 審查人員 | 陳建銘 | ||
| 摘要 | 本發明揭櫫一種長週期光纖光柵的製造方法,此方法包含:設置一具長週期結構的遮罩件於一光纖上;照射一雷射經遮罩件至光纖,使光纖對應長週期結構之部位的表面燒熔,而非對應長週期結構之部位的表面未燒熔;以及濕蝕刻光纖。 | ||
| 專利範圍 | 1.一種長週期光纖光柵的製造方法,係包括:設置一具長週期結構的遮罩件於一光纖上;照射一雷射經該遮罩件至該光纖,該雷射產生熱效應於光纖表面,使該光纖對應該長週期結構之部位的表面燒熔,而該光纖非對應該長週期結構之部位的表面未燒熔,其中該雷射能量為10至15mJ、頻率為50至150Hz;以及濕蝕刻該光纖,使該光纖表面之燒熔部位與未燒熔部位產生形成蝕刻深度差異。 2.如請求項第1項所述之製造方法,其中該雷射為準分子雷射。 3.如請求項第1項所述之製造方法,其中該雷射為選自由Ar2*、Kr2*、F2*、Xe2*、ArF、KrF、XeBr、XeCl、XeF、及KrCl所組成的群組。 4.如請求項第1項所述之製造方法,其中該雷射走速為0.05至0.3mm/s。 5.如請求項第1項所述之製造方法,於該遮罩件設置步驟前,更包括:預先濕蝕刻該光纖。 6.如請求項第1項所述之製造方法,於該遮罩件設置步驟前,更包括:去除該光纖外的一外衣層。 7.如請求項第1項所述之製造方法,於該遮罩件設置步驟前,更包括:去除該光纖外的一外衣層;以及預先濕蝕刻該光纖。 8.如請求項第1項所述之製造方法,其中該光纖對應該長週期結構之部位於該濕蝕刻後的厚度為15至25μm,非對應該長週期結構之部位於該濕蝕刻後的厚度為40至45μm。 9.如請求項第1項所述之製造方法,其中該雷射能量為12mJ、頻率為50至100Hz、走速為0.2mm/s。 |
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