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【I716272】呼吸感測器、呼吸儀及其照護呼吸系統

公告號
I716272 
專利名稱 呼吸感測器、呼吸儀及其照護呼吸系統
RESPIRATION SENSOR, RESPIROMETER, AND RESPIRATORY CARE SYSTEM
公告日 2021/01/11
證書號 I716272
申請日 2020/02/03
申請號 109103250 
國際分類號
/IPC
A61B-005/097(2006.01);A61B-005/08(2006.01)
公報卷期 48-02
發明人 楊誌欽 YANG, CHIH CHIN;
蕭佑良 HSIAO, YU LIANG;
吳宗憲 WU, ZONG HSIEN
申請人 國立高雄科技大學 NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 高雄市三民區建工路415號 TW
代理人 陳豐裕
參考文獻 TWM533211
CN105424780B 
CN209420996U 
US2010/0217099A1 
審查人員 吳丕鈞
摘要 本發明係有關於一種呼吸感測器、呼吸儀及其照護呼吸系統,其主要採用以氮化銦製成之薄膜晶片作為感測濕度的呼吸感測器,並將其置放於口罩內,供使用者於戴掛口罩時,可同步進行偵測;藉此,透過呼吸感測器紀錄人體呼吸的頻率及變化量,並可將檢測結果的數據資料經由後端系統進行分析判斷,以達到人體健康管理,以及可即時判斷是否有呼吸相關的疾病發作,更可以應用在居家與高齡的健康照護,可有效降低照護人力資源的功效。
專利範圍 1.一種呼吸感測器,其主要係包括有呼吸感測器;其中,所述呼吸感測器具有一氮化銦薄膜晶片,所述氮化銦薄膜晶片用以感測人體呼吸時所呼出之氣體的濕度、呼吸頻率,並透過檢測氣體濕度下的電容值而獲得電性量測之數值。
2.如請求項1所述之呼吸感測器,其中所述氮化銦薄膜晶片係包含有一具有多孔自然氧化矽層的基板,於所述基板上方成長出一矽層,再於所述矽層上方濺鍍出一氮化銦層,所述氮化銦層上方設有汲極與源極。
3.一種口罩式呼吸儀,係包含有如申請專利範圍第1至2項中任意一項所述之呼吸感測器;其中,將所述呼吸感測器置設於一口罩內,所述口罩設有一夾層,讓所述呼吸感測器嵌入於所述夾層內,且所述口罩設有至少一定位繩,所述定位繩用以將所述口罩戴掛定位在人體口鼻位置處。
4.一種照護呼吸系統,其包含有:
一呼吸儀,係設有一口罩,所述口罩設有一夾層,且所述口罩設有至少一定位繩,所述定位繩用以將所述口罩戴掛定位在人體口鼻位置處,再於所述口罩夾層內嵌入一呼吸感測器,所述呼吸感測器具有一氮化銦薄膜晶片,所述氮化銦薄膜晶片用以檢測人體呼吸時所呼出之氣體的濕度、呼吸頻率,並透過檢測氣體濕度下的電容值而獲得電性量測之變化數據;
一傳輸單元,係連結所述呼吸感測器,能將所述呼吸感測器檢測的資訊傳輸出去;
一後端接收單元,係連結接收所述傳輸單元所傳入的資訊,於所述後端接收單元內建構有一紀錄單元及一分析處理器,所述紀錄單元紀錄所述呼吸感測器所檢測的數據,而所述分析處理器接收所述紀錄單元所紀錄的數據,並將前述數據進行分析判讀者。
5.如請求項4所述之照護呼吸系統,其中所述傳輸單元可採有線或無線傳輸方式。
6.如請求項5所述之照護呼吸系統,其中所述後端接收單元可為智慧型通訊裝置、儀器設備或醫療監控系統。
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