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【I707721】處理六氯矽乙烷蒸氣之方法
| 公告號 |
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| 專利名稱 | 處理六氯矽乙烷蒸氣之方法 PROCESS FOR TREATMENT OF HEXACHLORODISILANE VAPOR |
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| 公告日 | 2020/10/21 | ||||||
| 證書號 | I707721 | ||||||
| 申請日 | 2019/06/06 | ||||||
| 申請號 | 108119816  |
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| 國際分類號 /IPC |
B01D-053/78(2006.01);B01D-053/68(2006.01) | ||||||
| 公報卷期 | 47-30 | ||||||
| 發明人 | 陳政任 CHEN, JENQ RENN; 林俞蓁 LIN, YU JHEN; 蔡曉雲 TSAI, HSIAO YUN; 秦睦耕 CHIN, MO GENG; 王政傑 WANG, CHENG CHIEH; 阮 成忠 NGUYEN,THANH TRUNG; 蓋 尤金 英 NGAI, EUGENE YIN |
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| 申請人 | 國立高雄科技大學 NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 高雄市三民區建工路415號 TW | ||||||
| 代理人 | 陳豐裕 | ||||||
| 參考文獻 | CN206535403U |
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| 審查人員 | 陳子明 | ||||||
| 摘要 | 本發明有關於一種處理六氯矽乙烷蒸氣之方法，其將六氯矽乙烷蒸氣引入苛性鹼/醇類溶液進行反應；藉此，本方法可避免六氯矽乙烷蒸氣水解形成撞擊敏感粉末(shock sensitive powder)，並可解決處理過程中因撞擊或火焰而點燃並爆炸之問題。 | ||||||
| 專利範圍 | 1.一種處理六氯矽乙烷蒸氣之方法，其包括將六氯矽乙烷蒸氣引入苛性鹼/醇類溶液進行反應。 2.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該六氯矽乙烷蒸氣為純六氯矽乙烷蒸氣或稀釋六氯矽乙烷蒸氣。 3.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該醇類為一至十個碳的有機醇類，可以為直鏈或有支鏈。 4.如申請專利範圍第3項所述之方法，其中該醇類為甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、正戊醇、異戊醇、正己醇或異己醇。 5.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該醇類可透過蒸餾來回收正丁醇或正己醇繼續使用。 6.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該苛性鹼為氫氧化鉀或氫氧化鈉。 7.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該苛性鹼的濃度為0.1wt%至20wt%。 8.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該苛性鹼的濃度為1wt%至10wt%。 |
ga-I707721.pdf
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